Wish Deep Nourishing Mask

Глицерин, бутиленгликоль, циклопентасилоксан, полиизобутен гидрогенизированный, масло ши, диоксид титана, оксид цинка, дипальмитоил гидроксипролин, масло авокадо (без сапонинов), ментиллактат, вода гамамелиса вирджинского, тиоктовая кислота, феруловая кислота, фитиновая кислота, мелатонин, гиалуроновая кислота, коевая кислота, экстракт центеллы азиатской, хлорфенезин, ацетил дипептид-1, эсцин, рутин, аллантоин, экстракт корня цимицифуги кистевидной, токоферола ацетат, ретинил пальмитат, аскорбиновая кислота (С).

Dimethiconol, Acetyl dipeptide-1 cetyl ester, Acrylates Copolymer, Allantoin, Ascorbic Acid, Butylene Glycol, Butyrospermum Parkii (Shea Butter), C12-15 Alkyl Benzoate, C13-14 Isoparaffin, Calcium Carbonate, Caprylyl Glycol, Centella Asiatica Extract, Chlorphenesin, Cimicifuga racemosa root extract, Cyclopentasiloxane, Dipalmitoyl Hydroxyproline, Escin, Ethoxydiglycol, Ferulic Acid, Glycerin, Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Water, Hyaluronic Acid, Hydrogenated Polyisobutene, Hydroxyethyl Cellulose, Kojic Acid, Laureth-7, Magnesium Carbonate, Melatonin, Menthyl Lactate, Persea Gratissima (Avocado) Oil Unsaponifiables, Phenoxyethanol, Phytic Acid, Polyacrylamide, Retinyl Palmitate, Rutin, Sodium Lactate, Sodium PCA, Sodium Polyacrylate, Sorbitan Laurate, Sorbitan Stearate, Thioctic Acid, Titanium Dioxide, Tocopheryl Acetate, Zinc Oxide, Deionized water (Aqua), Red # 40 (CI 16035).

Нанести равномерным слоем на чистую кожу лица, шеи и декольте на 10-15 мин. Смыть теплой водой. Использовать 1-2 раза в неделю.

У лиц с повышенным уровнем аллергической чувствительности может возникнуть перекрестная реакция на различные компоненты, о которых они могут не знать заранее.